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光刻機大廠阿斯麥爾(ASML)1月3日晚間表示，它在德國柏林的一家工廠發生了火災。不過，過程中說沒有人受傷。至于，現在評估火災對其營運的影響狀況還為時過早。

ASML是當前所有先進半導體芯片制造商的關鍵生產設備供應商。由于全球半導體芯片目前面臨供應短缺的問題，使得該公司目前正在加緊生產設備當中。因此，任何事件造成出貨時間的延遲狀況，都會沖擊到全球半導體產業中那些企圖擴大產能的客戶們。

起火的公司前身是Berliner Glas，是ASML的供應商。ASML公司2020年才收購了這家公司，當時該公司的年營收約為2.3億歐元。Berliner Glas主要為ASML光刻機制造光學系統，這是光刻機的三大核心部件之一。Berliner Glas 所生產的零組件主要包括晶圓(wafertables)、光罩盤(reticle chucks)、以及反射鏡(mirror blocks) 等產品。 

報道進一步指出，ASML對于火災的狀況強調，目前對火災損失，或是事件本身是否會對ASML在2022年的生產計劃產生任何影響，其發表任何聲明都為時過早?，F階段預估將需要幾天時間來統計損失，其結果也將盡快向市場發布最新資訊。不過，ASML的股價，在傳出發生火災之前持續維持上漲約1%的態勢。但是，在傳出發生火災事件之后，則是股價下跌約0.3% 幅度，來到每股704.4 歐元的價位。

2021年10月底，ASML發布了Q3財報，凈銷售額52億歐元（約合386億元），毛利率51.7%，凈利潤17億歐元（約合126億元）。官方預計四季度銷售額49億到52億歐元，毛利率在51%到52%。

ASML稱，三季度，EUV光刻機系統的訂單量達到了29億歐元，且當季的出貨量和收入創下歷史新高。目前，ASML主力EUV光刻機是TWINSCAN NXE:3600D，其在客戶那里也達到了每小時加工160片晶圓的創紀錄效率。

DUV（深紫外）光刻機方面，完成出貨1000臺ArF（氟化氬浸沒式光刻系統），這距離第一臺浸沒式光刻機（XT:1700Fi）出貨過去了15年。

此外，ASML的第一臺高NA EUV光刻機預計將在2023年開放早期訪問，2024年到2025年開放給客戶進行研發并從2025年開始量產。據悉，相較于當前0.33NA的EUV光刻機，0.55NA有了革命性進步，它能允許蝕刻更高分辨率的圖案。分析師Alan Priestley稱，0.55NA光刻機一臺的價格會高達3億美元（約合19億元），是當前0.33NA的兩倍。