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        第二屆“環太激光損傷——高功率激光光學材料”專題研討會由中科院上海光機所和SPIE共同主辦，中國光學學會和中國科學院協辦。主席由中科院上海光機所邵建達研究員，日本大阪大學Takahisa Jitsuno 教授和美國新墨西哥大學Wolfgang Rudolph教授共同擔任。

　　來自亞洲、北美、歐洲等地區11個國家的120余位專家出席了本屆會議，其中30余位專家來自境外。本屆會議共接受論文87篇，包括61篇口頭報告和26篇張貼報告。與第一屆會議的100余位參會人數和來自8個國家的20余位境外代表相比，本次會議均略有增長。會議圍繞紫外-紅外高功率激光損傷，激光切割和加工，缺陷、污染、拋光和表面損傷，表征技術和測量方法，高損傷閾值薄膜，非線性激光晶體，激光陶瓷，光學玻璃與光纖等8個議題展開。

　　一、缺陷、污染、拋光和表面損傷

　　在該議題部分，本屆會議收到7篇口頭報告，討論的內容包括先進加工技術，基于反應離子束刻蝕和基于氫氟酸水溶液刻蝕的表面處理技術，借助散射光對表面、薄膜和體材料中損傷相關的缺陷進行表征的技術，以及355 nm激光脈沖能量和脈沖數對熔石英在真空環境中損傷閾值的影響等。

　　得益于確定性拋光技術，非球面加工在近年來取得了較大的進展。然而，對于大口徑和高精度的非球面表面加工，仍然存在很多問題，例如中頻誤差問題。中頻誤差會引起小角散射、能量損失、像素串擾等問題，因而在拋光中必須對中頻誤差進行控制。Xuqing Nie等從理論和實驗上對中頻誤差問題進行了研究，他們分析了在中頻誤差方面的加工能力不足，并介紹了一種包括磁流變加工和離子束加工的拋光工藝，用于解決中頻誤差問題。

　　熔石英加工過程中引起的裂紋、劃痕和雜質污染等會在激光輻照下誘導元件損傷，從而降低熔石英元件的抗激光損傷閾值。Xiaolong Jiang等介紹了他們利用化學瀝濾對熔石英元件表面雜質污染進行去除的效果，以及對傳統的氫氟酸水溶液刻蝕工藝進行優化，有效阻止反應物的再沉積。測試結果表明：這兩種表面處理方法都在一定程度上提升了石英元件的抗激光損傷閾值。Laixi Sun等報道了利用反應離子束刻蝕技術對熔石英表面進行處理的結果。認為通過反應離子束刻蝕技術，能夠去除石英元件表面的雜質污染和劃痕等結構特征，從而提升了石英元件的抗激光損傷閾值。

　　微小缺陷引起的散射會引起光學元件的性能下降，包括增加損耗、影響成像系統精度等。另一方面，借助光散射，能夠對表面以及材料的雜質進行非接觸式無損探測分析。Sven Schroder等介紹了弗勞恩霍夫應用光學精密機械研究所研發的ALBATROSS系統，能夠對紫外至紅外光譜波段的光散射進行測試；并利用光散射測量裝置對激光誘導損傷相關的雜質進行分析，包括界面粗糙度、表面缺陷、體材料的不均勻性和亞表面損傷等。

　　Xiaoyan Zhou等研究了石英基片在真空環境下，經過不同能量、不同脈沖數的355 nm激光輻照后的性能變化。認為石英基片在經過紫外預輻照后，表現出強的吸收帶或熒光帶，這歸因于非橋氧空穴中心、缺氧缺陷，以及其他一些激光誘導損傷缺陷。用于高功率激光系統的光學元件必須經過光學加工和表面處理這兩個基本過程。光學加工帶來的表面和亞表面缺陷以及表面處理和輸運等過程帶來的表面污染，很大程度上降低了光學元件的損傷閾值和光學質量。此外，對于表面鍍膜的光學元件，缺陷和污染對薄膜性能的影響也是需要關注和解決的問題。本議題中的報告，無論是加工技術的改進，還是診斷技術的提高，基本都是圍繞著提高光學表面質量，減少表面和亞表面缺陷而展開的。盡管相關的工作對提高光學表面質量起到了很大的作用，但是從高功率激光系統的需求出發，這方面的研究工作還遠遠不夠，特別是光學元件表面和亞表面缺陷對薄膜抗激光性能和其他性能的影響問題還在起步階段；此外，包裝、傳輸及應用過程中的污染導致光學元件性能下降等問題還缺乏系統的研究和足夠的重視。期待著相關方面的研究工作有更大的進展。

　　二、表征技術和測量方法

　　表征技術和測量方法部分討論光學材料與光學元器件性質的表征與測量技術，以及如何利用這些手段獲得準確的測試結果。本屆會議中，該議題部分有1篇大會特邀報告，2篇邀請報告。美國內布拉斯林肯大學Yong Feng Lu教授在其大會特邀報告中，對基于激光的光譜學和光譜計量學進行了詳盡的介紹。

　　對于光學材料與元器件性質的表征與測試而言，具備相應測試功能的平臺是首要前提。然而，如何借助這些平臺，獲得準確的表征與測試結果是一項重要且非常艱巨的任務。以損傷閾值測試為例，納秒脈寬激光輻照下的激光損傷機制包含了從雪崩離化到熱擴散等不同的過程。由于同時存在多種作用過程，測試參數的差異可能會引起測得的損傷閾值不同，這就使得對比不同裝置上測得的損傷閾值非常困難。為了降低損傷閾值測試結果的不確定性，需要了解不同測試參數對最終測試結果的影響。Jean-Yves Natoli教授在其邀請報告中對這方面的問題做了很有特色的評述和分析，給出了具有參考價值的結果和建議。報告從ISO質量標準的要求出發，強調了準確測量光束空間分布和時間分布的重要性。作者明確指出，測量光學材料體損傷閾值時，對于不均勻光束和聚焦光束，除了準確測量和正確分析光斑尺寸之外，還必須測量光束的三維分布特性。為了準確測量光束脈沖寬度，必須同時關注主脈沖和子脈沖的分布特性，否則可能會造成很大的測量誤差。對于損傷特性的測量和分析，報告介紹了兩種測量模式即統計模式和整體模式，分析了兩種損傷測量模式的基本特征。統計模式建立的是損傷幾率與激光能量密度的關系，可以快速地得到相應的結果。測量的便捷性有益于測量過程中的參數選擇和變化，便于研究材料損傷特性與測量參數的關系；此外，通過分析損傷幾率曲線的分布及變化，可以分析材料中缺陷的類型和分布，并找到最敏感的誘因。然而，受光斑大小、取樣密度和激光輸出水平的限制，這種模式得到的結果有一定的不確定性。整體模式是一種功能性損傷的測量模式，通過激光束在材料表面上進行光柵式掃描獲得激光損傷的密度和密度分布。該測量模式有助于獲得所有的缺陷損傷，包括最低損傷閾值的源頭，能夠為材料的應用提供參考。除此之外，作者還建立了多脈沖損傷幾率與單脈沖損傷幾率之間的統計關系，提出了兩種不同的s-on-1損傷模式：一種是幾率損傷模式，這種模式下多脈沖的作用并沒有改變材料特性，損傷幾率的增加完全是統計過程引起的；另一種是累積損傷模式，這種模式下多個激光脈沖的作用使得材料本身的特性發生了變化，損傷幾率的增加不完全遵守損傷幾率的統計關系。從激光與材料的作用過程來分析，作者認為幾率損傷表現為瞬時損傷，而累積損傷表現為永久損傷。光熱技術被廣泛應用于高功率激光薄膜特性的表征，包括光學吸收的測量、熱導率的表征以及局部缺陷的分析等。用于探測光熱響應的方法有很多，包括光熱偏轉技術、光熱共徑干涉技術、表面熱透鏡技術等。Jingtao Dong等基于橢圓光度法對光熱響應進行了研究，通過分析探測光束的偏振信息，提取測試樣品的表面吸收特性。作者認為對于測試薄膜中弱吸收而言，該技術非常具有應用前景。#p#分頁標題#e#

　　表征技術和測量方法是高功率激光光學材料研究工作和技術工作的重要組成部分，表征和測試技術的不斷提高和發展，將推動相關領域做出更高水平的研究工作，包括高功率激光光學材料性能的提高以及高性能的材料和元器件的推出。事實上，除了本議題中的報告之外，會議的每一個議題都貫穿著表征技術和測量方法的研究。表征和測試技術包括材料本身性能的測量，激光參數的測量，激光與材料作用過程的測量以及激光與材料作用后的材料和生成物的測量。在這些測試中，激光與材料作用過程的實時測量和瞬態時間過程測量，對于研究激光對材料的損傷機制是非常重要的，也是目前測試技術中需要進一步研究的問題。

　　三、高損傷閾值薄膜

　　高損傷閾值薄膜議題部分有口頭報告5篇。涵蓋了用于Nd：YAG激光器的基頻、二倍頻和三倍頻的薄膜，以及用于脈沖壓縮的多層介質膜光柵，報告了薄膜元件在實際裝置中的環境耐受能力。

　　日本大阪大學Takahisa Jitsuno教授在其題為“激光損傷機制研究的最近進展和污染對光學元件的影響”的大會特邀報告中，介紹了用于快點火實驗的短脈沖、高能激光系統(LFEX激光系統)，并重點介紹了系統中用于脈沖壓縮和聚焦的真空腔體，腔體在使用過程中碰到的油污染問題，以及后續如何去除污染方面的工作。作者對從不同供應商購買的薄膜元件在污染前后，以及清洗后的損傷閾值進行對比，實驗結果表明：不同供應商的元件表現出不同的污染耐受能力。

　　Heyuan Guan等針對金屬-介質膜光柵的近電場分布進行優化，以降低光柵內部電場峰值，提高光柵的抗激光損傷能力。Jie Liu等研究了532 nm HfO2/SiO2 反射膜的激光預處理工藝，研究結果表明適當的激光預處理工藝能夠在一定程度上提升532 nm HfO2/SiO2 反射膜的損傷閾值。355 nm反射膜方面的研究工作也有報道，研究了氧化物材料和氟化物材料制備的355 nm反射膜的光譜性能、應力及其抗激光損傷性能，分析了損傷機制。作者認為綜合氧化物材料和氟化物材料各自的優勢，能提升三倍頻薄膜元件的抗激光損傷閾值，有潛力在ICF裝置中發揮作用。光學薄膜是高功率激光系統中的重要元件，也是高功率激光材料的重要組成部分，一直是相關工作中研究的重點。本議題中的文章雖然不多，但是涉及面很廣，其中有兩個問題值得重點關注。其一是短波長激光薄膜的損傷問題，隨著波長的短移，薄膜損傷的主要機制和誘發薄膜損傷的缺陷類型均發生變化，相關的變化規律是研究工作的重點。盡管隨著波長短移薄膜的損傷閾值會有所下降，但是相關的研究表明目前所見到的損傷問題都是非本征損傷。這就意味著紫外激光薄膜特別是三倍頻薄膜還有比較大的提升空間，突破激光通量對薄膜損傷閾值的要求是完全可能的。其二是激光系統中的工作環境對薄膜的污染問題，污染會嚴重影響光學薄膜的質量，降低光學薄膜的損傷閾值。隨著應用環境的變化，這方面的問題會越來越多。薄膜元件的污染問題是一個全局性的問題，無論是從事高功率激光薄膜的研究人員，還是從事高功率激光驅動系統研究和激光物理實驗研究與應用的研究人員，都應該給予更多的關注。