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圣地亞哥，2018年8月27日電 /美通社/ - 用于半導體制造的準分子激光器的領先制造商Cymer今天宣布首次客戶安裝其XLR 860ix光源，預計將用于芯片生產在高級邏輯和內存節點。

XLR 860ix是一款基于氬氟化物準分子激光器的深紫外（DUV）光源。第一個客戶安裝在本月完成，XLR 860ix與ASML的最新光刻系統TWINSCAN NXT：2000i配對，該光源系統今年早些時候獲得了資格。

“XLR 860ix通過改進高速控制和重新設計的板載帶寬測量，與前一代產品相比，將帶寬變化減少了兩倍。這是一項重要成就，因為這些變化會導致關鍵尺寸誤差（CD）均勻性反過來影響圖像質量和最終制造產量。我們的客戶使用XLR 860ix的早期版本驗證了光譜穩定性的改善，這使我們相信這種光源將會有助于提高用于生產先進集成電路的CD均勻性，“Cymer產品營銷副總裁Patrick O'Keeffe說。

在XLR860ix全面發布之前，Cymer通過升級現有光源，為早期訪問計劃的客戶提供了關鍵技術。已經完成了四次這樣的升級，計劃在今年年底之前升級另外七個來源。共有七位客戶參與了早期訪問計劃。為了滿足客戶的強烈需求，Cymer已迅速將其生產能力轉移到XLR 860ix型號，用于所有未來的ArF沉浸式發貨。

“除了早期訪問計劃，我們還提供了XLR 860ix的一項關鍵新技術，作為以前光源模型的升級。這種升級延長了光學器件和腔室的使用壽命，增加了時間間隔。維修間隔為33％，從而使我們的客戶能夠更好地利用他們的光刻系統，每年為每個工具提供數千個額外的晶圓。我們的客戶積極利用這一升級，在過去一年內完成了400多次升級。大多數升級后的系統超出了目標服務間隔，“O'Keeffe說。